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本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本发明的课题是提供一种组成物,是可形成图案弯曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机膜形成用组成物,且溶剂溶解性优异,缺陷的发生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组成物,其特征为含有:以下列通式(1)表示的结构作为部分结构的聚合物;及有机溶剂。式(1)中,环结构Ar1及Ar2表示亦可具有取代基的苯环或萘环,W1为亦可具有取代基的碳数6~30的芳基。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113359390 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110240480.9 C08G 61/02 (2006.01)
(22)申请日 2
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