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本发明提供一种应用于OLED器件结构技术领域的OLED器件结构的制备方法，本发明还涉及OLED器件结构，所述的OLED器件结构的制备方法的制备步骤为：S1.阳极成膜；S2.阳极图形化；S3.PDL成膜；S4.PDL图形化；S5.纳米金属团簇成膜：使用真空蒸镀或者溶胶旋涂的方式形成簇成膜，通过控制真空度、蒸镀时间或者溶胶的浓度以及旋涂的速率和时间控制纳米金属团簇的尺寸；纳米金属团簇的中金属，本发明所述的OLED器件结构的制备方法及OLED器件结构，步骤简单，减少PDL区域造成的光损耗，提高器件发光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113380966 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110636295.1
(22)申请日 2021.06.08
(71)申请人 安徽
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