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一种用于处理基板的气体注射器包含：主体，所述主体具有能连接至气体源的入口，所述气体源被配置为当处理在设置于处理腔室的处理容积内的基板支撑件上的基板时，在第一方向上提供气流至所述入口；及气体注射通道，所述气体注射通道形成在所述主体中。所述气体注射通道与所述入口流体连通且被配置为将所述气流输送至所述处理腔室的入口。所述气体注射通道具有平行于第二方向和第三方向的第一内表面和第二内表面。所述第二方向和所述第三方向不与所述基板的中心相交，并朝向所述基板支撑件的第一边缘而与所述第一方向成一角度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113366623 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202080011807.9 克里斯托弗 ·S ·奥尔森
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