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用于将包含硅和氧的膜沉积到衬底上的方法包括(a)在反应器中提供衬底;(b)将至少一种选自本文所述的式A、B和C的硅前体化合物引入反应器中,(c)用吹扫气体吹扫反应器;(d)将含氧源和含氮源中的至少一种引入反应器中;和(e)用吹扫气体吹扫反应器,其中重复步骤b至e直到沉积所需厚度的所得含硅膜;以及(f)用R3xSi(NR1R2)4‑x处理所得含硅膜,其中R1‑3与前述相同,优选为甲基或乙基;并且x=1、2或3;并且其中该方法在约20℃至300℃范围的一个或多个温度下进行。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113383108 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202080012410.1 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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