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本发明涉及铜互连工艺技术领域,具体涉及一种铜互连结构及其制备方法。该结构包括:介质层,其表面设有沟槽;氮化钽阻挡层、衬垫层和铜种子层叠置在所述介质层上,以阻挡所述铜种子层中的铜向所述介质层扩散;所述沟槽位于所述氮化钽阻挡层下方。本发明采用氮化钽作为阻挡层,减少了阻挡层的厚度,采用铜种子层替代传统工艺中的电镀铜和种子层,精简了铜互连结构,同时衬垫层的加入,提高了铜种子层的成核率,提高了铜种子层的可靠性,从而在保证铜互连结构的可靠性的前提下,降低了铜互连结构的电阻率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113380763 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110524519.X
(22)申请日 2021.05.13
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
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