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一种铜箔光面微浊处理设备及处理工艺.pdfVIP

一种铜箔光面微浊处理设备及处理工艺.pdf

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    本发明提供了一种铜箔光面微浊处理设备及处理工艺，属于铜箔加工设备技术领域。它解决了现有的用于生产双光面铜箔的浊化、蚀刻处理设备在两侧都喷淋浊液后，辊筒所在的一侧容易堆积浊液影响工艺品质的问题。本微浊处理设备包括通过支架固定设置的以下部件：储液箱、循环泵、过滤器、两个分流器、正向喷淋器、反向喷淋器、辊筒组件、辊动驱动元件、排液驱动装置。与现有技术相比，本微浊处理设备能够及时清理堆积在辊体上的微浊液，能够避免因微浊过度产生影响产品性能的情形。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113337821 B (45)授权公告日 2022.08.23 (21)申请号 202110448136.9 审查员 赵亚斌 (22)申请日 2021.04.25

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