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下层膜形成用材料、抗蚀剂下层膜及层叠体.pdfVIP

下层膜形成用材料、抗蚀剂下层膜及层叠体.pdf

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    一种在多层抗蚀剂工艺中使用的下层膜形成用材料，其满足：(i)由以下数学式(1)定义的元素构成比率Re为1.5～2.8，(ii)玻璃化转变温度为30～250℃，(iii)包含至少1种(优选为2种以上)具有特定结构单元的树脂。数学式(1)中，NH为下层膜形成用材料的固体成分中的氢原子的数目，NC为下层膜形成用材料的固体成分中的碳原子的数目，NO为下层膜形成用材料的固体成分中的氧原子的数目。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113365820 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202080012316.6 (74)专利代理机构 北京银龙知识产权代理有限

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