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本发明公开了一种基于TSV的三维集成电路封装方法,方法包括:提供晶圆器件,在晶圆正面光刻出掩膜层,分别刻蚀出TSV通孔和沉头孔,然后进行TSV电镀和微凸块电镀;采用磨削设备和抛光液对晶圆进行磨削和抛光处理,在将晶圆磨削至预设厚度;在晶圆表面利用磁控溅射方法在淀积出扩散阻挡层及种子层,同时在晶圆背面制作反面铜锡微凸块;利用划片设备进行划片,将晶圆划分为普通芯片和带加强环及沉头孔结构的芯片,再利用堆叠设备将两种芯片分别独自进行逐层堆叠形成3D芯片,然后放入回流炉进行回流,最后获得3D堆叠芯片。本发明
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113380649 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110592533.3
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 成都优拓优联万江科技有限公司
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