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本发明公开了一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，包括连接杆、与连接杆一端设置磁钢的靶头、密封套设在靶头外的靶罩，所述靶头内设置有空腔，所述靶头端部固定有阴极溅射板，所述靶罩与靶头密封固定时所述阴极溅射板露出；所述靶罩上环设有与若干个与靶罩连通的喷口，所述靶头上设置有进气接口，所述靶头内部设置有与进气接口连通的均气机构。设置靶头内部的均气机构可以将通入的氦气均匀分散在靶头内部。环设在靶罩上的若干个喷口保证氦气可以从靶罩各个方向喷出，以保证溅射的氩离子可以尽可能多的向样品基片方向运动，保证覆膜速度
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113373418 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110664482.0
(22)申请日 2021.06.16
(71)申请人 北京航空航天大学合肥创新研究院
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