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    提出了一种被配置用于辐射所聚焦的电磁波束的设备。这种设备包括：‑第一部分(101)和第二部分(102)，分别具有第二折射率n2和第三折射率n3以及第一W1和第二W2；‑第一接触区域(100e1)，其旨在位于具有第一折射率n1的主介质之间，并且其中微米颗粒或纳米颗粒旨在被所述设备辐射的聚焦电磁波束捕获或移动；‑第二接触区域(100e2)，其位于所述第一部分和所述第二部分之间；以及‑第三接触区域(100e3)，其旨在位于所述第二部分和所述主介质之间。当入射电磁波(IEM)照射所述设备时，所聚焦的电磁

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113366365 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 201980090828.1 奥克萨那 ·什拉姆科娃　 (22)申请日 201

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