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本发明公开了一种晶圆曝光方法，包括：在清洁后的目标透明衬底的正面沉积挡光金属；对挡光金属进行刻蚀处理，刻蚀处理后的挡光金属形成了目标图案；在目标透明衬底的正面涂覆负性光刻胶，负性光刻胶覆盖在刻蚀处理后的挡光金属和目标透明衬底上；从目标透明衬底的背面对目标负性光刻胶进行曝光，目标负性光刻胶包括未被挡光金属遮挡的负性光刻胶。本申请不再依赖于传统的掩膜版，而是将挡光金属自身作为掩膜进行光刻，挡光金属紧密贴合在透明衬底上，不需要被曝光的负性光刻胶处于挡光金属的顶部，当光束接触到挡光金属的底部时就已经被阻
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113380607 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110514601.4
(22)申请日 2021.05.11
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
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