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本申请提供了一种检测三维存储器的方法，该方法包括：部分移除衬底以暴露至少两个沟道结构的存储膜的一部分，以形成至少两个刻蚀区；向至少两个刻蚀区执行第一刻蚀，其中，第一刻蚀被配置为能够刻蚀掉沟道层与第一刻蚀的刻蚀材料接触到的部分；在执行第一刻蚀后，向至少两个刻蚀区执行第二刻蚀，其中，第二刻蚀被配置为能够刻蚀掉存储膜和填充层与第二刻蚀的刻蚀材料接触到的部分；以及比较执行第二刻蚀后的多个刻蚀区的形貌差异获得检测结果。该方法以较为简单的方式实现了微小缺陷的检出，具有大批量操作的可能性，避免因忽略了此类缺陷
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113421834 B
(45)授权公告日 2022.06.14
(21)申请号 202110689315.1 H01L 27/11582 (2017.01)
(22)申请日 2021
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