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氧化钨溅射靶.pdfVIP

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    本发明的特征在于，通过溅射面及与所述溅射面正交的截面的X射线衍射分析，确认到W18O49的峰，并且所述溅射面的W18O49的(103)面的衍射强度IS(103)与(010)面的衍射强度IS(010)之比IS(103)/IS(010)为0.57以上，所述截面的W18O49的(103)面的衍射强度IC(103)与(010)面的衍射强度IC(010)之比IC(103)/IC(010)为0.38以下，与溅射面平行的面的所述W18O49相的面积率为37％以上。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113423859 A (43)申请公布日 2021.09.21 (21)申请号 202080013496.X (74)专利代理机构 北京德琦知识产

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