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本发明公开了一种反渗透膜的硫垢清洗剂及其制备方法,清洗剂各组分按质量百分比计包括:主溶剂,占比为5%‑10%,所述主溶剂为二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一种或几种;助溶剂,占比为1%‑5%;催化剂Ⅰ,占比为2%‑4%;催化剂Ⅱ,占比为1%‑3%,所述催化剂Ⅱ为相转移催化剂;螯合剂,占比为1%‑5%;表面活性剂,占比为2%‑5%;余量为水。本发明反渗透膜的硫垢清洗剂可有效去除膜表面上的硫污染、硫单质与无机金属和有机污染物所形成的复合污染,从而有效恢复膜通量,同时不会损坏膜片,还可提高其抗污
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113385042 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202110797540.7 (56)对比文件
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