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本发明属功能材料制备技术领域,涉及一种基于双重连续印迹体系制备仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜的制备方法;步骤为:首先合成UiO‑66颗粒,利用多巴胺自聚‑复合印迹技术,以四环素为模板分子,制备聚多巴胺基印迹UiO‑66,并将其用作膜负载材料,结合相转化手段制备UiO‑66基纳米复合印迹膜;最后以四环素为模板分子,氨丙基三乙氧基硅烷和正硅酸四乙酯为功能单体和交联剂,基于溶胶凝胶印迹方法,制备得到仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜;本发明制备的复合膜解决了现有四环素分子印迹聚合物所存在的难回
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113398776 B
(45)授权公告日 2022.03.22
(21)申请号 202110610673.9 B01J 20/30 (2006.01)
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