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本公开提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域。本公开提供的阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、像素层、有机层和彩膜层。其中,像素层包括第一子像素、第二子像素和第三子像素;有机层远离衬底基板的表面设置有与第一子像素交叠的第一凹槽;彩膜层包括与第一子像素交叠的第一色阻单元、与第二子像素交叠的第二色阻单元和与第三子像素交叠的第三色阻单元;其中,第一色阻单元至少部分容置于第一凹槽中。本公开提供的阵列基板,能够提高阵列基板的显示质量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113410276 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110677096.5
(22)申请日 2021.06.18
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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