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一种硅片的清洗装置以及清洗方法.pdfVIP

一种硅片的清洗装置以及清洗方法.pdf

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    本发明实施例公开了一种硅片的清洗装置以及清洗方法，所述装置包括清洗槽，所述清洗槽包括承载已完成抛光工序的硅片的内槽以及围设于所述内槽外的外槽；设置在所述清洗槽正上方的淋洗槽，所述淋洗槽的底部设置有多排出水孔，所述淋洗槽中的去离子水能够通过所述多排出水孔排出并淋洗放置于所述内槽中的所述硅片；为所述淋洗槽供给去离子水的供水机构。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113410165 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110686731.6 (22)申请日 2021.06.21 (71)申请人 西安

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