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本发明实施例公开了一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质,涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域。所述镀膜设备靶位的功率调整方法:包括实时获取玻璃距靶位的距离;判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;其中,第二功率值小于第一功率值。本发明能够避免能量浪费,更节能;进一步地,无需人工调整,节省人力;进一步地,功率调整控制精准,产品质量好。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113403600 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110659680.8
(22)申请日 2021.06.11
(71)申请人 东莞南玻工程玻璃有限公司
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