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公开了一种用于光刻制造工艺中的量测设备。该量测设备包括辐射源,该辐射源包括具有分裂成多个光学路径的输出的驱动激光器,所述多个光学路径中的每个都包括各自的宽带光产生器。该量测设备还包括:照射光学器件,所述照射光学器件用于照射结构;至少一个检测系统,所述至少一个检测系统用于检测已经由所述结构散射的散射辐射;以及处理器,所述处理器用于根据所述散射辐射确定所述结构的感兴趣的参数。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113424106 A
(43)申请公布日 2021.09.21
(21)申请号 202080014088.6 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任
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