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2023-06-22 发布于四川
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量子点修饰方法.pdf

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本发明公开了一种量子点修饰方法，该方法通过确定介电常数小于或者等于预设数值的第一溶剂与介电常数大于预设数值的第二溶剂，根据配体、第一溶剂与第二溶剂得到介电常数为2～10的目标配体溶液，再将目标配体溶液与待修饰量子点溶液混合，得到目标量子点溶液，利用配体完成对量子点缺陷的修复处理。本发明通过根据配体、低介电常数溶剂与高介电常数溶剂得到介电常数为2～10的目标配体溶液，再将目标配体溶液与待修饰量子点溶液混合反应，得到目标量子点溶液，可以在量子点合成之后再对量子点进行配体修饰，减少了量子点表面的缺陷，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113403061 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110606729.3 (22)申请日 2021.05.31 (71)申请人广东

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