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本发明实施例公开了一种硅片边缘抛光装置以及方法，所述装置包括：用于吸附待边缘抛光硅片的真空吸盘；圆边抛光鼓，所述圆边抛光鼓内设置有多个抛光垫，所述多个抛光垫沿所述圆边抛光鼓内表面的周向方向呈多排环形分布，以实现当所述硅片与所述圆边抛光鼓发生相对转动时抛光所述硅片的边缘；设置在所述圆边抛光鼓中心位置处的供液管路，所述供液管路能够从所述硅片上表面的正上方供给抛光液；设置在所述圆边抛光鼓内的圆形挡板，所述挡板设置在所述硅片的正上方，且能够绕中心轴线X作旋转运动；其中，所述挡板在朝向所述圆边抛光鼓的表面
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113400176 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110688126.2 B24B 41/04 (2006.01)
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