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本发明公开一种用于半导体电路的设备，该用于半导体电路的设备包括水洗装置、溶剂清洗装置和机械手，所述水洗装置包括水洗槽和若干喷头，所述水洗槽内的半导体电路经水洗后通过所述机械手搬运至所述溶剂清洗装置内进行溶剂清洗。本发明所提出的用于半导体电路的设备，在对半导体电路进行溶剂清洗前，先通过机械手将其搬运至水洗槽内，由喷头对半导体电路进行喷淋清洗，水洗时半导体电路表面的各种杂质颗粒以及水溶性极性离子会被有效清除，而后再对水洗后的半导体电路进行溶剂清洗，由于半导体电路表面的主要污染物基本被清除，因此可以大
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113399358 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110770340.2 H01L 21/67 (2006.01)
(22)申请日 2
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