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本发明提供一种晶片制造方法,所述晶片具有槽口部,所述晶片制造方法包括如下工序:双面抛光工序,抛光晶片的两个主面;槽口镜面抛光工序,镜面抛光槽口部的槽口倒角部;外周镜面抛光工序,镜面抛光晶片中外周部的外周倒角部;以及精抛工序,精抛晶片的一个主面,在按照槽口镜面抛光工序、双面抛光工序以及外周镜面抛光工序的顺序进行这些工序后,进行精抛工序。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113439008 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 201980086186.8 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公
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