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本申请提供一种3DNAND存储器的空洞检测方法,包括以下步骤:刻蚀去除部分选择性外延生长层得到目标选择性外延生长层,所述目标选择性外延生长层的顶部低于或者齐平于绝缘层的顶部;形成覆盖于所述目标选择性外延生长层表面的第一保护层;对沟道孔进行退火处理;形成覆盖于衬底的侧壁和底部的第二保护层;使用湿法刻蚀工艺对所述3DNAND存储器进行处理并进行空洞检测。本申请提供的空洞检测方法,将所述选择性外延生长层刻蚀至其顶部低于或者齐平于所述绝缘层的顶部,再使用湿法刻蚀工艺刻蚀所述衬底,通过检测所述衬底是否
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113410153 B
(45)授权公告日 2022.02.11
(21)申请号 202110617443.5 H01L 27/11582 (2017.01)
(22)申请
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