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进液装置及半导体清洗设备.pdfVIP

进液装置及半导体清洗设备.pdf

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    本发明提供一种进液装置和半导体清洗设备，其中，进液装置用于向半导体清洗设备的清洗槽中输送工艺液体，其包括储液容器、进液管路、液体压力调节单元和控制单元；其中，储液容器用于存储工艺液体；进液管路分别与储液容器和清洗槽连接，用于将储液容器中的工艺液体输送至中清洗槽中；液体压力调节单元与进液管路连接，用于将储液容器中的工艺液体抽出，并调节进液管路内的液体压力；控制单元用于根据预设条件控制液体压力调节单元调节进液管路内的液体压力。本发明提供的进液装置和半导体清洗设备能够根据预设条件自动调节半导体清洗设备

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113414165 A (43)申请公布日 2021.09.21 (21)申请号 202110691026.5 (22)申请日 2021.06.22 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司

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