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本发明提供一种检测方法和等离子体处理装置，能够提高对等离子体的状态、处理工艺的状态、等离子体处理装置及其零件的状态的至少任一者的监视精度。检测方法包括对下部电极供给偏置功率，并对上部电极或者下部电极供给源功率的步骤；和检测安装在腔室上的传感器的输出值的步骤，检测传感器的输出值的步骤包括(a)按偏置波形的每个周期确定偏置波形的第一相位的步骤；(b)确定第二相位的步骤，其中第二相位是从确定了第一相位的时刻起经过预先设定的第一时间后的源波形的第二相位；和(c)从确定了第二相位的时刻起经过预先设定的第二
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113410116 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110243624.6
(22)申请日 2021.03.05
(30)优先权数据
2020-0466
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