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提供了用于半导体制造中的选择性抑制控制的系统和方法。一种示例性方法包括提供包括具有特征内部和一个或多个特征开口的特征的衬底。在特征内部的表面上形成成核层。基于差异化抑制轮廓,在成核层的表面上选择性地形成非保形本体层以留下由非保形本体层覆盖的成核层的区域,以及未覆盖的成核层的区域。在成核层的覆盖和未覆盖区域上选择性地形成抑制层。根据差异化抑制轮廓将钨沉积在特征中。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113424308 A
(43)申请公布日 2021.09.21
(21)申请号 202080014189.3 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263
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