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减少光刻过程中的透镜加热和/或冷却效应的方法.pdfVIP

减少光刻过程中的透镜加热和/或冷却效应的方法.pdf

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    一种光刻设备，包括：投影系统，包括至少一个光学部件，并且被配置为将图案投影到衬底上。所述光刻设备还包括控制系统，所述控制系统被布置为减少光学部件在光刻过程中的加热和/或冷却的所述效应。所述控制系统至少被配置为：选择多个模式形态中的至少一个，以表示所述光刻过程中的至少一个输入与由所述输入产生的像差之间的关系；以及基于所述模式形态，生成并应用对所述光刻设备的校正。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113396365 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202080012892.0 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任

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