具有氮化硅缓冲层的显示设备及其制造方法.pdfVIP

具有氮化硅缓冲层的显示设备及其制造方法.pdf

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公开了一种显示设备和一种制造该显示设备的方法。该显示设备包括基底。第一缓冲层设置在基底之上。第一缓冲层包含氮化硅并且具有大于约0.36且等于或小于约1.01的键合到硅的氢的原子百分比。薄膜晶体管设置在第一缓冲层之上。薄膜晶体管包括有源层。显示元件电连接到薄膜晶体管。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113394256 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110263145.0 (22)申请日 2021.03.11 (30)优先权数据 10-2020-0

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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