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本发明属于镀铜技术领域,具体涉及一种沉铜组合物及沉铜方法。本技术方案中发明人通过选择合适和稳定剂,使在沉铜的过程沉铜稳定,避免了铜离子的聚集,使得在沉铜的过程中达到晶粒细化的目的,避免部分区域铜富集增长形成斑块,提高了沉铜的光亮度和均匀性,保证沉铜的致密性,避免铜层稀疏,避免部分区域沉铜厚度降低,甚至出现铜空洞的现象,提高沉铜层的机械性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113463074 B
(45)授权公告日 2022.06.14
(21)申请号 202110618998.1 (56)对比文件
(22)申请日 2021.06.03
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