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本发明提供了一种基于金属相材料/二维黑砷磷的晶体管,包括源极、漏极、栅极、介电层、二维黑砷磷层和金属相材料层;所述介电层设于栅极上,所述二维黑砷磷层和金属相材料层均设于介电层上,且所述二维黑砷磷层与金属相材料层连接,所述源极及漏极均设于二维黑砷磷层或者金属相材料层上,且所述二维黑砷磷层未被源极或者漏极完全覆盖;所述源极与漏极之间通过二维黑砷磷层以及金属相材料层连接。本发明基于金属相材料/二维黑砷磷的晶体管改善了半导体与金属电极之间的接触电阻,提升了基于金属相材料/二维黑砷磷的晶体管的光响应效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113437155 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 202110753627.4
(22)申请日 2021.07.02
(71)申请人 泰山学院
地址 27
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