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本申请涉及晶圆清洗的领域,尤其是一种用于高转速的旋转真空传导装置,解决了晶圆清洗过程中,水柱和高速气流的换向较麻烦,难以对晶圆整体进行全面清洁,影响晶圆的清洗效率和清洗效果的问题,其包括转轴,所述转轴沿中心轴开设有盲孔,所述转轴沿半径开设有多个通孔,所述盲孔与多个所述通孔相通,所述转轴外与多个所述通孔相应的位置绕所述转轴的中心轴转动设置有抽气腔壳,所述抽气腔壳与所述转轴间形成抽气腔,所述抽气腔壳开设有用于抽气的第一抽气孔。本申请具有方便晶圆的整体全面清洁的效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113437011 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 202110714867.3
(22)申请日 2021.06.25
(71)申请人 争丰
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