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本发明提供了一种铑负载量子点自修饰氮化碳纳米片的制备方法,该催化剂在可见光催化还原型辅酶Ⅰ(烟酰胺腺嘌呤二核苷酸,NADH)再生中可以得到很好的应用。本发明通过煅烧法,以双氰胺与NH4Cl为原料制备了具有纳米薄片形貌的氮化碳材料(CNs)。然后通过低温固相热法,制备了氮化碳量子点溶液(CNQDs),经过与CNs混合搅拌并煅烧将其负载至CNs表面。最后通过光沉积法将RhCl3·3H2O还原负载至CNs表面。本发明通过氮化碳量子点的自修饰以及铑元素的负载,显著提升了催化剂材料的电子性能,抑制了光生电
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113477268 B
(45)授权公告日 2022.07.01
(21)申请号 202110721662.8 CN 112076774 A,2020.12.1
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