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一种超薄精密遮光片蚀刻设备,属于蚀刻设备相关技术领域,包括基座以及通过升降机构活动设置在所述基座上方的横板,还包括喷淋头,所述喷淋头与蚀刻液储存罐连接用于将蚀刻液均匀喷射至遮光片上的蚀刻位置,在进行遮光片的蚀刻工作时,将带蚀刻的遮光片通过稳固机构安装在所述基座的上方,随后旋转组件工作,驱动喷淋头做圆周运动,在此过程中,触发机构与升降机构工作,触发机构驱动喷淋头在圆周运动的过程中做直线运动,向遮光片的边缘扩散,同时,升降机构将驱动喷淋头逐渐缓缓上升,使得靠近遮光片中央部分的喷射压力大于遮光片边缘的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113441316 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110714408.5
(22)申请日 2021.06.26
(71)申请人 绍兴华立电子有限公司
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