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旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法，涉及物理气相沉积领域。本发明的目的是为了解决现有物理气相沉积方法难以在回火温度以下为GCr15轴承钢旋翼轴承内圈内壁表面沉积结合力强且均匀薄膜的问题。本申请以旋翼轴承内圈为真空室，在氩气环境下，采用两个与轴承内圈同轴的一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶，利用高功率脉冲磁控溅射方法，溅射出高离化率金属离子，分别将两种金属沉积在旋翼轴承内圈内壁，为旋翼轴承内圈内壁镀打底膜和镀面膜，通过移动一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶电极形成均匀的镀膜效
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113445013 B
(45)授权公告日 2022.06.03
(21)申请号 202110721580.3 C23C 14/56 (2006.01)
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