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本发明公开了一种晶圆后处理设备及其应用的具有匀流功能的通风系统,晶圆后处理设备包括:用于竖直旋转晶圆的夹持机构、用于输送流体的供给臂、用于在晶圆处理腔室内形成动态气流的通风系统;通风系统包括进气组件和排气组件,排气组件包括排风背板、环形匀流板和环形排风罩,环形匀流板设置在排风背板靠近环形排风罩的一侧,晶圆处理腔室内的气体依次通过排风背板的排风口、环形匀流板的匀流口进入环形排风罩进行汇集,并通过环形排风罩的底部引出结构向下方的排气管路引出;排风背板的多个排风口排列成与环形排风罩位置对应的环形,环形
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113488415 B
(45)授权公告日 2022.08.02
(21)申请号 202110761658.4 JP 2015005770 A,2015.01.08
(22)申请日
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