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本发明涉及一种聚合物的应用及包含该聚合物的光刻胶,属于环境友好材料领域。该聚合物作为可降解材料的应用,该聚合物含有若干个重复单元,所述重复单元的结构式如式Ⅰ所示:将该聚合物置于光照和氧存在条件下,使所述聚合物光氧化降解为寡聚物或者二元羧酸。本发明中的聚合物可大大降低聚合物的分子量,减小对环境的负担。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113461851 B
(45)授权公告日 2022.05.20
(21)申请号 202110653466.1 审查员 张亨
(22)申请日 2021.06.11
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