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本发明涉及真空镀膜实验设备,具体地说是一种高温高真空退火炉,离子泵、退火室腔体、进样室腔体及分子泵依次连接,分子泵与机械泵通过管路相连,离子泵与退火室腔体之间、退火室腔体与进样室腔体之间以及进样室腔体与分子泵之间均设置有插板阀;退火室腔体内设有固定的上加热器及可上下升降的下加热器,进样室腔体内设有可上下升降的多层样品库,进样室腔体的一侧安装有手动传递杆机械手。本发明可在真空条件下快速和退火室完成样品交换,保证退火室一直处于高真空状态。本发明的高温高真空退火炉,退火室的冷态极限真空度可达到10‑8
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113493904 B
(45)授权公告日 2022.06.07
(21)申请号 202010194318.3 C23C 16/54 (2006.01)
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