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根据本发明实施例的一种半导体器件包括第一器件区域中的全环绕栅极(GAA)晶体管和第二器件区域中的鳍型场效应晶体管(FinFET)。GAA晶体管包括多个垂直堆叠的沟道构件和多个垂直堆叠的沟道构件上方和周围的第一栅极结构。FinFET包括鳍形沟道构件和鳍形沟道构件上方的第二栅极结构。鳍形沟道构件包括由牺牲层交错的半导体层。本申请的实施例还提供一种形成半导体器件的方法。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113451307 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110167965.X
(22)申请日 2021.02.07
(30)优先权数据
16/895,67
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