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本发明属于发光器件技术领域,尤其是一种高发光效率的硅基发光器件,现提出以下方案,包括硅基发光器件本体,所述硅基发光器件本体的内部设置有P区,且硅基发光器件本体的内部设置有N区,所述P区和N区的底部外壁设置有PN结,所述硅基发光器件本体的内部设置有挖槽,且挖槽将PN结周围挖空,所述硅基发光器件本体的内部设置有负极,且硅基发光器件本体的内部设置有正极。本发明通过设置有挖槽,PN结通过挖槽变成立体器件之后,结区面积被有效扩大了,让PN结增加了侧面发光区域,提高了发光效率,同时,通过增加A‑A’方向挖槽
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113437190 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 202110802640.4
(22)申请日 2021.07.15
(71)申请人 成都普瑞德半导体有限公司
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