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一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置.pdf

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    本发明涉及平磨装置技术领域，具体为一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置，所述平磨设备包括工作台支撑底座，所述工作台支撑底座的一侧连接有电控箱，所述电控箱的顶端连接有支撑架，所述支撑架的顶端连接有嵌入式控制面板，所述工作台支撑底座的正面连接有调节旋钮，在进行加工期间，需要通过打磨片对代加工的工件进行打磨处理，本发明在打磨期间通过设置的自清洁大盘能对打磨片上端残留的打磨液进行清洁，能将多余的研磨液进行及时的回收处理，通过清洁能避免研磨液的飞溅，保证了施工环境的卫生，在进行平磨处理能节省更多的时间，进

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113500514 B (45)授权公告日 2022.06.14 (21)申请号 202110586059.3 B24B 55/12 (2006.01)

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