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本发明公开一种碳化硼陶瓷的激光冲击强化方法，包括如下步骤：提供含有至少一抛光面的碳化硼陶瓷试件；在碳化硼陶瓷试件的一抛光面覆盖吸收层，并在吸收层上施加约束层；将施加约束层的抛光面朝向激光束并对其进行激光冲击强化处理；其中，激光冲击强化处理采用波长为1064nm的激光器，脉冲20‑50ns，激光的光斑直径为2‑4mm，单脉冲能量2‑7J，频率2‑5Hz，单脉冲激光光斑搭接率在37.5％‑62.5％，冲击次数为2次。本发明提供的碳化硼陶瓷的激光冲击强化方法，能够实现碳化硼陶瓷的高质量冲击强韧化，并避
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113429218 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 202110731586.9
(22)申请日 2021.06.29
(71)申请人 武汉理工大学
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