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本发明适用于光学基底清洗领域，公开了清洗工装，包括框体和设置在框体上的限位结构，框体包括底部支撑结构、顶部支撑结构、以及连接顶部支撑结构和底部支撑结构的连接杆，限位结构包括底板和与底板垂直连接的背板，底板安装在底部支撑结构上，背板上部抵靠在顶部支撑结构上，且底板背离底部支撑结构的侧面和背板背离顶部支撑结构的侧面均设置有若干个锯齿结构，相邻两个锯齿结构之间形成沟槽，光学基底能够倾斜放置在清洗工装内的，因此，利用该清洗工装对光学基底清洗时能够避免光学基底的光学表面残留水渍的问题，同时有效避免光学基底
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113441473 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110752244.5
(22)申请日 2021.07.02
(71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物
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