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本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。在使用等离子体去除抗蚀膜时,抑制对衬底造成的损伤并且不需要使用SPM。在等离子体处理(步骤S102)中,执行对抗蚀膜(R)的表面供给自由基(活性种)的自由基供给步序。然后,执行抗蚀剂去除步序,即,在自由基供给步序之后对存在于衬底(S)的正面(Sa)的抗蚀膜(R)供给低表面张力的有机溶剂,由此从衬底(S)的正面(Sa)去除抗蚀膜(R)(步骤S104)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113451124 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110198269.5
(22)申请日 2021.02.22
(30)优先权数据
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