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本发明涉及电镀领域,更具体地,本发明涉及一种电镀填孔组合物及其电镀填孔方法,所述电镀填孔组合物,包括1‑1000ppm抑制剂、260000‑270000ppm酸性电解质、35000‑45000ppm铜盐、20‑60ppm整平剂,所述整平剂由(a)杂环化合物,(b)环氧化物,(c)缩水多元醇醚,(d)多元醇,(e)羧基烷烃化合物,(f)卤代烷烃盐中一种或多种聚合而成的聚合物。本申请电镀填孔组合物具有优异的填充率,填平效果好。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113463142 B
(45)授权公告日 2022.06.14
(21)申请号 202110622988.5 H05K 3/42 (2006.01)
(22)申请日 2021.06.
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