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本发明提出了一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用，属于光固化技术领域。其中，含氟光敏聚合物采用含共引发剂胺的烯烃基单体、含氟碳链的烯烃基单体、含光敏二聚分子的烯烃基单体以及普通的烯烃基单体进行自由基共聚反应制备得到。本发明制备的图案化光固化涂层由丙烯酸酯类树脂及单体组成，在小分子光引发剂及含氟光敏剂的配合使用下，通过紫外光照射发生的梯度二聚反应及聚合反应使表面发生自褶皱。且在紫外光透过光掩模照射后可在特定区域内产生多层次褶皱。根据本发明制备的图案化光固化涂层可应用于防伪及芯片封
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113444199 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110692322.7
(22)申请日 2021.06.22
(71)申请人 上海
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