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本申请涉及一种显微成像设备以及纳米尺度三维形貌测量系统,显微成像设备包括显微镜、4F系统以及相机;所述4F系统包括两个透镜组以及电控变焦透镜;两个所述透镜组分别为第一透镜组和第二透镜组;两个所述透镜组均为反远距结构的傅里叶变换物镜;所述显微镜的镜片、第一透镜组、电控变焦透镜、第二透镜组以及相机的镜片依次设置于同一光轴上;所述第一透镜组以及所述第二透镜组对称设置于所述电控变焦透镜两侧;所述显微镜的像平面位于所述第一透镜组的前焦面,所述电控变焦透镜位于所述第一透镜组的后焦面以及所述第二透镜组的前焦面
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113568153 B
(45)授权公告日 2021.12.21
(21)申请号 202111134261.9 G02B 21/04 (2006.01)
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