一种采用化学气相沉积工艺制备非晶SiOC涂层的方法.pdfVIP

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2023-06-29 发布于四川
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一种采用化学气相沉积工艺制备非晶SiOC涂层的方法.pdf

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本发明属于涂层制备技术领域，具体涉及一种采用化学气相沉积工艺制备非晶SiOC涂层的方法。采用热激发式化学气相沉积系统，选择六甲基二硅氧烷(HMDSO)或六甲基二硅烷或四乙氧基硅烷、无水乙醇、氢气和氩气气体体系并控制有机硅烷和无水乙醇的比例，在工作压强10～1000Pa和温度为1000～1200℃条件下，在不锈钢、碳钢或其他合金表面沉积出结构致密、厚度0.1～50μm的非晶SiOC涂层，非晶SiOC涂层硬度范围为6GPa～15GPa，摩擦系数范围为0.02～0.2。该非晶SiOC涂层化学稳定性好、

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113684467 A (43)申请公布日 2021.11.23 (21)申请号 202110844642.X (22)申请日 2021.07.26 (71)申请人中国科学院金属研究所

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