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本申请公开了一种空气桥的制备方法、空气桥结构及超导量子芯片，涉及电路结构领域。该方法包括：在衬底上沉积符合空气桥形状的桥撑材料；在衬底和桥撑材料上涂敷图形化光刻胶；基于空气桥的开口要求接收在图形化光刻胶上的曝光图形化处理，开口要求用于指示空气桥的桥面上开口的位置要求；在曝光图形化处理后的图形化光刻胶上进行显影处理；在显影处理后的桥撑材料上沉积桥材料，得到具有开口的空气桥。通过在图形化光刻胶上进行图形化曝光处理，从而在桥面上设置贯通桥面的开口结构，而在制备空气桥的过程中，通过该开口结构释放桥撑材料
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113707601 A
(43)申请公布日 2021.11.26
(21)申请号 202011309305.2
(22)申请日 2020.11.20
(71)申请人 腾讯科技（深圳）有限公司
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