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公开控制工艺腔室清洁气体用量的方法及工艺处理系统。控制工艺腔室的清洁气体用量的方法包含:供应清洁气体至工艺腔室,以清洁工艺腔室;于清洁期间,利用摄像装置获取工艺腔室的影像;利用影像处理装置识别影像,以判断工艺腔室的清洁是否完成;以及当判断工艺腔室的清洁为完成时,停止供应清洁气体。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113699507 A
(43)申请公布日 2021.11.26
(21)申请号 202111011979.9 C23C 14/54 (2006.01)
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